IEEE Electron Device Lett.にて発表した論文” High-Temperature Operation of n- and p-Channel JFETs Fabricated by Ion Implantation Into a High-Purity Semi-Insulating SiC Substrate “がEDLの”Editor’s pick”に選出&表紙絵を飾る

IEEE Electron Device Lett.にて発表した論文” High-Temperature Operation of n- and p-Channel JFETs Fabricated by Ion Implantation Into a High-Purity Semi-Insulating SiC Substrate”(著者: Mitsuaki Kaneko, Tsunenobu Kimoto)がEDLの”Editor’s pick”に選ばれました。また、本論文が5月号の表紙絵に採用されました。表紙はこちら