Compound Semiconductor誌に本研究室の成果が掲載

半導体に関する国際的な業界誌であるCompound Semiconductor誌(2021年7月号)に本研究室のSiC MOS界面特性向上に関する研究成果が「20年ぶりの革新的な成果」として掲載され、巻頭の “VIEWPOINT” でも紹介されました。