ようこそ半導体物性工学分野へ!
本研究室では、新しいデバイス動作原理や構造、新材料の導入によって、既存のデバイスの限界を打破するキーデバイスの実現を目指した研究に取り組んでいます。京都大学ならではの自由な発想に基づいたScienceとEngineeringの融合で、世界の先端を走る研究を常に心がけています。
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2012年2月卒業生追い出しコンパ
最新情報 †
- 2012/5/11 丹羽弘樹(修士課程2回生)がIEEE IMFEDK2012で発表したSiC PiNダイオードの論文(共著者:須田、木本)に対して、IMFEDK Best Paper Awardが授与されました。
- 2012/4/28 金子光顕(修士課程1回生)が、第4回窒化物半導体結晶成長講演会にて発表奨励賞を受賞しました。
- 2012/4/3 木本教授が第10回APEX/JJAP編集貢献賞を受賞しました。
- 2012/1/25 奥田貴史(修士課程1回生)が電子情報通信学会電子デバイス研究会にて学生発表奨励賞を受賞しました。
- 2012/1/5 Applied Physics Express掲載論文 (Hiyoshi and Kimoto, vol. 2, 041101 (2009))が同誌のMost Cited Articles 2010 (Top 10))に選ばれました。
- 2011/12/25 三宅裕樹(博士課程3回生)がIEEE Kansai Section Student Paper Awardを受賞しました。
- 2011/12/2 木本教授が知識探索サイト「ジャパンナレッジ」の「今日の人物」に紹介されました。
- 2011/10/21 森岡直也(博士課程1回生)が、第11回IEEE関西電子デバイスワークショップIEEE EDS Kansai Chapter MSFK Award (Student Award)を受賞しました。
- 2011/9/21 木本教授が第29回大阪科学賞を受賞しました。
- 2011/8/29 木本教授のSiCパワー半導体に関する産学連携の成果が日刊工業新聞の産学連携特集に掲載されました。
- 2011/8/1 日吉透(執筆当時修士課程2回生)が、第33回応用物理学会論文奨励賞(受賞論文: Applied Physics Express, vol.2, 091101 (2009))を受賞しました。
- 2011/7/14 当研究室、東京エレクトロン、ロームの共同研究の成果であるSiCエピタキシャル成長装置「Probus-SiC(東京エレクトロン社製)」が、半導体・オブ・ザ・イヤー2011の半導体製造装置部門で、グランプリを受賞いたしました。
- 2011/7/1 奥村宏典(博士課程3回生)が、第30回電子材料シンポジウムでEMS賞を受賞しました。
- 2011/6/1 最先端研究プログラム「低炭素社会創成へ向けたSiC革新パワーエレクトロニクスの研究開発」に関する木本教授のメッセージが公開されました。
- 2011/5/26 IEEE ISPSD2011で三宅裕樹(博士課程3回生)がCharitat Award(若手最優秀発表賞)を受賞しました。
- 2011/5/17 炭化珪素バイポーラトランジスタで世界最高の電流増幅率を実現しました。技術的な詳細は5/23から開催のIEEE ISPSD2011(米国サンディエゴ)にて発表します。 (日刊工業新聞、日本経済新聞、電波新聞に掲載、電子版では日刊工業新聞,asahi.com,日経などに掲載)
- 2010/11/30 森岡直也(修士課程2回生)が、第29回(2010年秋季)応用物理学会講演奨励賞を受賞しました。
- 2010/10/23 SiCが「魔法の省エネ半導体」として朝日新聞に掲載されました。
- 2010/10/22 南園悠一郎(博士課程1回生)が、第10回IEEE関西電子デバイスワークショップIEEE EDS Kansai Chapter MSFK Award (Student Award)を受賞しました。
- 2010/7/16 三宅裕樹(博士課程2回生)が、第29回電子材料シンポジウムでEMS賞を受賞しました。
- 2010/5/20 最先端研究開発支援プログラム「低炭素社会創成へ向けたSiC革新パワーエレクトロニクスの研究開発」のホームページが公開されました。
- 2010/5/15 奥村宏典(博士課程2回生)、上田俊策(修士課程2回生)の2名が、それぞれ、第2回窒化物半導体結晶成長講演会発表奨励賞を受賞しました。
- 2010/5/15 日経サイエンス5月号の「フロントランナー第5回」に木本教授が取り上げられました。
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背景 †
2005年2月に京都議定書が発効され、「環境の世紀」が始まりました。一方で、携帯電話やインターネットに代表される情報通信技術の進展は著しく、その発展には多量の電気エネルギーの消費を伴います。エネルギーの電化率が高くなっている現在、あらゆる電気・電子機器には、高性能化だけでなく低消費電力化が強く求められています。
これまでの半導体デバイスを支えてきたのは主にSi LSIであり、その高性能化の歴史はMOSトランジスタの微細化の歴史でした。しかしながら、従来技術の延長である「微細化(スケーリング)」による高性能化は、近い将来、様々な物理的障壁(短チャネル効果、発熱、量子力学的ゆらぎなど)に直面します。したがって、今後、半導体デバイスのさらなる高性能化と低消費電力化を両立させるためには、新しい原理や新しい材料を導入し、ナノテクノロジーに代表される先端技術を積極的に活用することが重要となります。「環境元年」は、半導体材料・デバイスにとっても大きな転換期で、「半導体」は新たな局面を迎えた活気に溢れる学際分野を提供しています。
本研究室の取り組み †
本研究室では、新しいデバイス動作原理や構造、新しい材料の導入によって、従来の微細Siデバイスの限界を打破する「ポストSi」キーデバイスの実現を目指した研究に取り組んでいます。
- 低次元半導体ナノ構造を用いた無散乱コヒーレント・トランジスタ
- 抵抗変化を利用した低消費電力不揮発性メモリ
- 窒化物半導体ヘテロ接合を用いた光・電子デバイス
- 高温動作MEMS(マイクロマシン)センサー/アクチュエータ
- ワイドギャップ半導体SiC電子デバイス
いずれの研究テーマも半導体物理、材料科学、量子力学、熱力学、結晶工学、電子工学などの学術分野を広くカバーしており、新しい物理現象の発見・解明やそのモデル化が重要です。京都大学ならではの科学的思考に基づいた科学と工学の融合で、世界の先端を走る研究を常に心がけています。c
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