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日経産業新聞に本研究室の研究成果が掲載

投稿日: 2019年9月22日2019年9月22日 投稿者: TanakaHajime

日経産業新聞(9月17日)に「パワー半導体が効率アップ 京大やロームが新技術」として本研究室のSiC MOS界面特性向上に関する研究成果が掲載されました。

カテゴリー: 報道 パーマリンク

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