日経産業新聞に本研究室の研究成果が掲載 投稿日: 2019年9月22日2019年9月22日 投稿者: TanakaHajime 日経産業新聞(9月17日)に「パワー半導体が効率アップ 京大やロームが新技術」として本研究室のSiC MOS界面特性向上に関する研究成果が掲載されました。