木本恒暢教授が学術誌APEX/JJAP編集運営に対する長年の貢献により、第19回APEX/JJAP編集貢献賞（応用物理学会）を受賞しました（3月16日）。木本教授の同賞受賞は第10回に続き2回目です。https://ww […]

2020秋季応用物理学会学術講演会における、「酸化過程排除プロセスによる高品質4H-SiC/SiO2界面の形成」の発表に対し、立木馨大君（博士課程2回生）の講演奨励賞の受賞が内定しました。

2020年9月にバーチャル開催されたパワー半導体デバイスおよびICに関する国際シンポジウム(ISPSD 2020)において、木本教授とトヨタ自動車の共同研究論文「Enhanced Performance of 50 nm […]

金祺民君(修士課程１回生)が卒業研究「イオン注入による半絶縁性SiC基板上サイドゲートJFETの作製と横方向チャネリングの解析」で令和2年度吉田卒業研究・論文賞を受賞しました

伊藤滉二君（D1)が「SiC/SiO2界面におけるチャネル内キャリア散乱機構の解明」に対して工学研究科馬詰研究奨励賞を受賞しました。

木本恒暢教授が「炭化珪素パワー半導体の基盤技術確立と実用化への貢献」という研究業績で、山崎貞一賞（材料科学技術振興財団）を受賞することが決定しました（9月29日）。https://www.mst.or.jp/Portal […]

大阪で開催された第320回電気材料技術懇談会若手研究発表会において、伊藤滉二君(修士課程2回生)が「 SiC MOS界面における伝導帯端の異常なゆらぎの発見 」の発表に対し、発表奨励賞を受賞しました。

広島国際会議場で開催された先進パワー半導体分科会　第6回講演会（12月3-4日）において、伊藤滉二君（修士課程2回生）が「SiC(0001)/SiO2界面における欠陥準位に対する反転層内量子化の影響」の発表で研究奨励賞を […]