J. Appl. Physにて発表した論文”High electron mobility in heavily sulfur-doped 4H-SiC“が”Editor’s pick”に選出&表紙絵を飾る

J. Appl. Physにて発表した論文”High electron mobility in heavily sulfur-doped 4H-SiC“(著者: Mitsuaki Kaneko, Taiga Matsuoka, Tsunenobu Kimoto)が”Editor’s pick”に選出されました。また、Featured articleとして本論文が表紙絵を飾りました。リンクはこちら